真空清洗的技术工艺

真空清洗一般定义为在真空工艺进行前，先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。

将工件放置于常压或真空中加热．促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的，这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件．促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下，为了得到原子级清洁表面，加热温度必高于450度才行．加热清洗方法特别有效。但有时，这种处理方法也会产生副作用。

这种清洗方法在高真空，超高真空系统的清洗除气中应用的非常广泛．尤其是在真空镀膜设备中用的最多。利用热丝或电极作为电子源．在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除．清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系．即取决于单位表面积上的离子数和离子能量．从而取决于有效电功率。